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            加熱防腐型勻膠機
            更新時間:2025-08-22 點擊量:259

            CSI-F975 加熱防腐型勻膠機

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            一、技術原理與核心參數

            加熱防腐型旋轉涂覆儀采用聚四氟乙烯腔體,外觀美觀堅固,具有優良的化學穩定性和ji強的耐腐蝕性,能夠用于各種需要抗酸堿和有機溶劑的場合。儀器采用先進的精密電機,轉速能達到 12000 轉/分,有效的保障了成膜的均勻性。除了基本的旋涂功能,本品還配有加熱組件,可以加熱到 200℃,由智能溫控表控溫,溫度測定準確,升溫過程wanquan可控。另外本儀器采用觸控屏控制,可以預設勻膠曲線,大大簡化了使用過程降低了學習成本,十分適合實驗室選購。

             

            、關鍵性能參數

            ?項目?

            ?參數要求?

            控制系統?

            PLC控制系統

            操作界面?

            彩色7寸觸摸屏,中英文切換?

            速度范圍

            0~ 12000rpm精度±1

            加速度

            100~8000rpm/s(空載)

            腔體材質

            聚四氟乙烯

            加熱溫度

            室溫+200℃?

            傳動機構

            精密電機+驅動器和高精度步進電機,傳動穩、噪音小;

            控溫方式

            AIP 智能控溫

            滴膠方式

            精密注射泵(0.01~5ml ,精度士 1% ,防回流設計)

            勻膠曲線

            每條曲線 1000 段,共可儲存 30 條曲線

            數據

            支持 USB 導出數據

            抽氣接口

            φ6mm 快擰接口

            無油真空泵

            50L/min

            勻膠吸盤

            ?10mm,?25mm,?55mm,?100mm聚四氟材質

            打印機

            嵌入式微型打印機

            電壓電流

            AC220V,50Hz

            外形尺寸

            310mm×365mm×350mm

            重量

            15kg

             

            三、應用領域

            ?光電子學領域?:用于制備太陽能電池、有機發光二極管(OLED)、有機太陽能電池(OPV)等器件的薄膜涂層?;

            ?半導體與微電子制造?:適用于光刻膠旋涂、晶圓表面涂布等工藝,支持最大12英寸晶圓處理?;

            ?材料科學?:可制備金屬、半導體、氧化物及聚合物等材料的均勻薄膜,尤其適合需要抗酸堿和有機溶劑的實驗環境?;

            ?生物醫學領域?:用于生物傳感器、生物芯片的涂層制備,聚四氟乙烯腔體設計確保化學穩定性與耐腐蝕性?;

            ?納米科技?:支持納米材料與納米薄膜的制備,高精度控溫(室溫-200℃)和轉速調節(10-12000轉/分鐘)保障工藝穩定性?。

             

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            四、基礎操作流程

            ?A、安裝與準備?

            ?連接設備?

            連接真空泵氣管與電源線,確保螺帽擰緊?。

            插入設備電源線并打開總開關?。

            ?安裝吸盤與片托?

            根據樣品尺寸選擇吸盤,對準槽口安裝并固定螺絲?。

            將片托凹槽對準電機軸頂絲垂直放置?。

            B、參數設置?

            ?選擇勻膠方案?

            進入操作界面,選擇預設方案(如5段式參數)或自定義參數?。

            ?設置轉速、時間與加速度?

            示例:第一段速度2000轉/分鐘,時間20秒,加速度2000?1。

            分段設置(如第二段3500轉/分鐘,第三段10000轉/分鐘)?。

            ?溫度控制(如需加熱)?

            設置溫度范圍(0-200℃),支持手動或自動加熱模式?。

            C、旋涂操作?

            ?放置樣品?

            將基片居中放置于片托,啟動真空泵吸附固定?。

            ?啟動勻膠?

            轉速穩定后注入膠液,程序自動分段執行?。

            ?完成與清潔?

            等待轉速歸零,關閉真空泵并取出樣品?。

            定期清潔抽氣孔(滴酒精維護)?。

            D、注意事項?

            ?防腐設計?:聚四氟乙烯腔體可耐酸堿腐蝕,避免接觸強氧化劑?。

            ?安全防護?:加熱模塊高溫,操作時勿觸碰?。

             

            五、儀器特點

            ?1.防腐設計?

            腔體材質采用?聚四氟乙烯(PTFE)?或?聚丙烯(PP)?,抗強酸、強堿及有機溶劑腐蝕?。

            部分機型配備?防濺廢料罐?和?排液管?,防止腐蝕性液體污染環境?。

            ?2.加熱與溫控功能?

            加熱范圍覆蓋?室溫至200℃?,控溫精度±1-2℃,適用于高溫工藝(如光刻膠烘烤)?。

            支持?分段控溫?,部分機型集成?抽廢氣功能?,確保工藝穩定性?。

            ?3.高精度勻膠性能?

            轉速范圍?10-20000轉/分鐘?,電機采用無刷伺服或德國進口電機,保障薄膜均勻性(厚度誤差±1%)?。

            部分機型支持?正反轉旋涂?和?分段編程?,優化復雜工藝需求?。

            ?4.智能化操作?

            配備?觸摸屏控制?、藍牙通信及PC端遠程控制軟件,支持配方存儲與掉電保護?。

            實時顯示?轉速曲線?、吸附力及報警功能(如進膠保護、吸附不足互鎖)?。

            ?5.安全與兼容性?

            透明耐腐蝕蓋板(丙烯酸材質)隔絕有毒氣體,部分機型適配手套箱使用?。

            適配半導體、光電子等領域?。

             

            六、配置清單

            主機1臺;

            測試軟件1套;

            說明書1份;

            合格證1份;

            保修卡1份;

            簽收單1份;

            銘牌1塊;

            電源線1根;

            扳手1套;

            宣傳冊若干;


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